|
|
Optimalizace impulsního silnoproudého výboje v plynem plněné kapiláře pro aplikační účely - Ar8+ laser 46.9 nm
Štraus, Jaroslav ; Koláček, Karel (vedoucí práce) ; Jančárek, Alexandr (oponent) ; Wild, Jan (oponent)
Předmětem práce bylo dokončení vývoje české varianty extrémně ultrafialového (XUV) argonového kapilárního laseru pracujícího na vlnové délce 46.9 nm a jeho přizpůsobení pro první praktické aplikace. Víceoborový komplex vzájemně provázaných problémů byl analyzován a studován: S pomocí defektoskopických metod byly zjišťovány příčiny nízké životnosti kapiláry, spektroskopicky byl na fyzikálním modelu studován vliv režimu předionizace. Provedením nezbytných konstrukčních a technologických změn a multi parametrickou optimalizací pracovního režimu byly zjištěné nedostatky potlačeny. XUV laser byl fokusován do stopy o velikosti cca 100 µm a aparatura byla rozšířena o praktické pomůcky a doplňky pro speciální aplikace, zejména pro expozici vzorků při extrémních teplotách. Z praktických aplikací XUV laseru byla provedena měření odrazivosti multivrstvých zrcadel a pohltivosti tenkých kovových filtrů. Principiálně byly ověřeny možnosti naprašování tenkých vrstev a testování radiační odolnosti materiálů s pomocí XUV laseru. Byla změřena patrně první teplotní závislost rychlosti XUV laserové ablace, v intervalu teplot od -180 o C do + 200 o C, na BaF2.
|
|
|
Characterization and focusing of capillary-discharge XUV-laser beam for purposes of thin-film deposition
Pira, Peter ; Wild, Jan (vedoucí práce)
Název práce: Charakterizace a fokusace svazku kapilárního XUV laseru pro účely depozice Katedra / Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí disertační práce: doc. RNDr. Jan Wild, CSc., Katedra fyziky povrchů a Abstrakt: Práce se zabývá prvními výsledky interakce záření XUV stolního kapilárního repetičního laseru o vlnové délce 46,9 nm s materiály vhodnými pro optoelektroniku, zejména iontovými krystaly CsI, LiF aj. Pomocí metod fyziky povrchů (AFM, DIC byly zkoumány otisky dopadu pulzního laseru. Na základě získaných výsledků byly získány ABLATOR. Plazma vznikající při ablaci bylo zkoumáno přizpůsobeným Klíčová slova: ablace, PLD, XUV laser
|
|
|
Characterization and focusing of capillary-discharge XUV-laser beam for purposes of thin-film deposition
Pira, Peter ; Wild, Jan (vedoucí práce)
Název práce: Charakterizace a fokusace svazku kapilárního XUV laseru pro účely depozice Katedra / Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí disertační práce: doc. RNDr. Jan Wild, CSc., Katedra fyziky povrchů a Abstrakt: Práce se zabývá prvními výsledky interakce záření XUV stolního kapilárního repetičního laseru o vlnové délce 46,9 nm s materiály vhodnými pro optoelektroniku, zejména iontovými krystaly CsI, LiF aj. Pomocí metod fyziky povrchů (AFM, DIC byly zkoumány otisky dopadu pulzního laseru. Na základě získaných výsledků byly získány ABLATOR. Plazma vznikající při ablaci bylo zkoumáno přizpůsobeným Klíčová slova: ablace, PLD, XUV laser
|
|
|
Characterization and focusing of capillary-discharge XUV-laser beam for purposes of thin-film deposition
Pira, Peter ; Wild, Jan (vedoucí práce) ; Čuba, Václav (oponent) ; Tichý, Milan (oponent)
Název práce: Charakterizace a fokusace svazku kapilárního XUV laseru pro účely depozice Katedra / Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí disertační práce: doc. RNDr. Jan Wild, CSc., Katedra fyziky povrchů a Abstrakt: Práce se zabývá prvními výsledky interakce záření XUV stolního kapilárního repetičního laseru o vlnové délce 46,9 nm s materiály vhodnými pro optoelektroniku, zejména iontovými krystaly CsI, LiF aj. Pomocí metod fyziky povrchů (AFM, DIC byly zkoumány otisky dopadu pulzního laseru. Na základě získaných výsledků byly získány ABLATOR. Plazma vznikající při ablaci bylo zkoumáno přizpůsobeným Klíčová slova: ablace, PLD, XUV laser
|
|
|
Optimalizace impulsního silnoproudého výboje v plynem plněné kapiláře pro aplikační účely - Ar8+ laser 46.9 nm
Štraus, Jaroslav ; Koláček, Karel (vedoucí práce) ; Jančárek, Alexandr (oponent) ; Wild, Jan (oponent)
Předmětem práce bylo dokončení vývoje české varianty extrémně ultrafialového (XUV) argonového kapilárního laseru pracujícího na vlnové délce 46.9 nm a jeho přizpůsobení pro první praktické aplikace. Víceoborový komplex vzájemně provázaných problémů byl analyzován a studován: S pomocí defektoskopických metod byly zjišťovány příčiny nízké životnosti kapiláry, spektroskopicky byl na fyzikálním modelu studován vliv režimu předionizace. Provedením nezbytných konstrukčních a technologických změn a multi parametrickou optimalizací pracovního režimu byly zjištěné nedostatky potlačeny. XUV laser byl fokusován do stopy o velikosti cca 100 µm a aparatura byla rozšířena o praktické pomůcky a doplňky pro speciální aplikace, zejména pro expozici vzorků při extrémních teplotách. Z praktických aplikací XUV laseru byla provedena měření odrazivosti multivrstvých zrcadel a pohltivosti tenkých kovových filtrů. Principiálně byly ověřeny možnosti naprašování tenkých vrstev a testování radiační odolnosti materiálů s pomocí XUV laseru. Byla změřena patrně první teplotní závislost rychlosti XUV laserové ablace, v intervalu teplot od -180 o C do + 200 o C, na BaF2.
|
|
|
Double pulse capillary discharge assessment for nitrogen soft X-ray laser.
Hübner, Jakub ; Nevrkla, M.
The work examines possibilities of capillary discharge pinching plasma driven by combination of two electric current pulses ("pedestal" slow exponentially damped sinus t1/4 > 200 ns, peak current Ipeak < 50 kA and fast triangular pulse with a rise time about 38 ns, Ipeak > 60 kA) to obtain the maximum possible gain at wavelength l = 13.4 nm (hydrogen-like nitrogen recombination scheme). The optimal initial density ρ0 (or pressure) and start time tstart of second triangular pulse (second pulse start at peak current Ipeak of the first pulse) were determined for two capillary radii (0.5 and 1 cm) and four current peaks of the first pulse (20, 30, 40 and 50 kA).\n
|
|
| |
host ::
RSS.